東京都市大学 世田谷キャンパスで開催された表面技術協会 第151回講演大会(3月12日~13日)におて,当研究室 4年生の大瀬良祐真君,永井一至君,渡邉雄介君が,それぞれ,口頭発表を行いました。表面技術協会とは,表面処理に関わる研究者や技術者が多数参加する,日本を代表する学会の一つです。発表後の質疑応答時には活発な議論が交わされ,研究内容への高い関心がうかがえました。
【発表タイトル】
大瀬良祐真君:インジウムのアノード酸化挙動
永井一至君:ガリウムのアノード酸化におけるエレクトロルミネッセンスの観察
渡邉雄介君:金ナノ粒子分散電解液中におけるアルミニウム合金のプラズマ電解酸化
表面技術協会
東京都市大学
